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公司:绍兴绍力机电科技有限公司
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D2MGMK280-1 超精密平面数控研磨机

产品简介

D2MGMK280-1 超精密平面数控研磨机床采用浮动变位自转平面研磨原理,可满足仪器、仪表、航空、航天、集成电路的等微小型零件(如光学元件、半导体元件及金属元件)平面研磨加工的需求,实现亚微米级平面度镜面粗糙度的研磨加工。
技术参数 产品特点 产品优势

D2MGMK280-1超精密平面数控研磨机

工作台

外形尺寸(长×宽)

mm

460×520

最大承载

Kg

200

行程及范围

X行程

mm

500

Y行程

mm

500

Z行程

mm

500

研磨盘

研磨盘最大转速

r/min

100

进给

最快进给速度(X/Y/Z

r/min

10

快速移动速度(X/Y/Z)

r/min

10

加工能力

最大加工直径

mm

280

平面度

1μm

1

平行度

μm

15

表面粗糙度

Ra

0.025

其他

电源

AC220V/50Hz

研磨液系统

配有研磨液系统

电子手轮

配有电子手轮

数控系统

标配开放式数控系统

机床尺寸(长×宽×高)

mm

1700×1100×2000

机床重量(净重)

Kg

(1)产品在提供机床的同时,还提供自适应浮动研磨工艺装置及多参数变位研磨工艺。
(2)加工平面度度高
随机提供的自适应浮动研磨工艺装置,可以有效地提高工件加工的平面度精度。
采用提供的自适应浮动研磨工艺装置可减小机床自身精度对加工平面度的影响。
(3)提高了工件表面完整性
采用提供的多参数变位研磨工艺,使工件表面各点与研磨盘之间的研磨相对运动轨迹均具有良好的时变性,克服了行星式研磨方法中研磨速度沿径向分布不均的状况。
(4)提高了工件表面完整性(粗糙度、表面微裂纹、表面硬化、残余应力等)。

(1)产品在提供机床的同时,还提供自适应浮动研磨工艺装置及多参数变位研磨工艺。
(2)随机提供的自适应浮动研磨工艺装置,可以有效地提高工件加工的平面度精度,平面度可达到亚纳米级。
(3)采用提供的多参数变位研磨工艺,使工件表面各点与研磨盘之间的研磨相对运动轨迹均具有良好的时变性,可提高工件表面完整性(粗糙度、表面微裂纹、表面硬化、残余应力等)。
(4)采用提供的多参数变位研磨工艺,提高了工件表面各处材料去除的均匀程度,表面微观粗糙度可达到几十个纳米级。


自适应浮动研磨工艺装置

加工后的样件